Canon研發噴墨式晶圓平坦化技術 力拚2027年產品化
- 江仁傑／綜合報導
Canon於1月13日宣布研發出一種在半導體製造過程中，能將晶圓表面凹凸處均勻平坦化的新技術，利用奈米壓印微影（Nano-imprint Lithography；NIL）技術，以噴墨技術噴塗樹脂材料後，再像蓋印章一樣壓上玻璃板使其平滑。將表面的凹凸控制在5奈米以下...
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