High-NA EUV接班人浮現 ASML Hyper NA挑戰5奈米單次曝光ASML與光學合作夥伴蔡司(Zeiss)的工程師團隊,近日於學術期刊《Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology》10月號共同發表研究論文,正式揭露現行高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)曝光機的下一代技術「超高數值孔徑極紫外光(Hyper NA
Pat Gelsinger談硬體「文藝復興」 記憶體、光互聯迎創新黃金時代隨著人工智慧(AI)重塑全球算力版圖,前英特爾(Intel)執行長Pat Gelsinger指出,AI雖然讓晶片設計變得更加容易,但製造、記憶體與能源等物理瓶頸,正推動一場前所未有的硬體復興。Gelsinger日前參與矽谷知名創投a16z最新一期訪談節目,與Raghu Raghuram、Guido