科技1分鐘：光阻劑是中國半導體一大罩門
- 宋丁儀
光阻劑（Photoresist）是半導體前段曝光製程中不可或缺的關鍵材料，直接決定晶片線寬、圖形精度與良率表現。在晶圓製造過程中，光阻劑會先均勻塗佈於晶圓表面，經曝光機透過光罩投射紫外光或極紫外光（EUV）後，產生化學反應，形成電路圖形，再搭配蝕刻製程完成微...
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