降低對日依賴 三星EUV製程將首次導入南韓本土空白光罩
- 蔡云瑄／綜合報導
三星電子（Samsung Electronics）將在極紫外光（EUV）製程中導入南韓自產空白光罩（blank mask），此次計畫最快於2026年第2季採用韓廠S&S Tech產品。鑑於這是三星首次在EUV製程使用南韓本土光罩，後續動向受到矚目。
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