三星傳大舉採購20台ASML設備 產能、製程續抗衡SK海力士
- 陳玟靜／綜合報導
三星電子（Samsung Electronics）傳於近期向ASML訂購約20台用於10奈米以下超微細製程的極紫外光（EUV）曝光設備。業界認為，三星計劃藉此在超微細製程上與SK海力士（SK Hynix）、美光（Micron）等競爭對手維持壓倒性差距。
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