ASMPT借助Renishaw光學尺技術強化高性能運動控制

Renishaw 光學尺系列。Renishaw

在當今半導體產業的奈米級別發展下，後段製程設備面臨著精度、生產力和穩定性等挑戰。光學尺作為運動控制中至關重要的元件之一，需要不斷更新技術並推出新產品，以滿足市場的嚴苛要求。

總部位於新加坡的ASMPT致力開發先進的半導體組裝和封裝設備，多年來受到業界的推崇，與Renishaw 的合作已經超過25年，在光學尺產品應用、客製化方案和設備檢測方案等領域積累了豐富的合作經驗；光學尺作為運動控制系統中的重要元件，規格也需不斷升級以滿足ASMPT因應市場的需求。而在選擇光學尺產品時，必須要考慮幾個關鍵要素：速度、抖動、光學尺體積，與安全和規性。

為了滿足這些要求，光學尺廠商需要不斷研發創新，以提高速度、降低抖動、減小體積和重量，並確保產品符合相關的安全標準和驗證要求。而ASMPT多年來採用多款Renishaw光學尺產品，從RGH到 RESOLUTE系列，再到近期的ATOM DX微型系列和VIONiC高性能系列等，應用在不同階段的後段製程設備上，包括INFINITE 12英吋晶片鍵合機，專為一般IC封裝而設計。

除了光學尺外，ASMPT亦使用Renishaw XL-80雷射干涉儀和XM-60多光束校正儀等校正設備，在設備生產和定期預防性維護方面發揮著重要作用。

例如，他們使用XL-80雷射干涉儀進行檢測和校正，以確保設備在運作過程中的準確性和穩定性。此外，Renishaw XM-60多光束校正儀具可以同時量測六個自由度的誤差，且只需進行一次設定。都有助於了解每台加工設備的精度等級和加工能力，確保設備的正確運作和生產效率。

ASMPT研發部總裁蔡秉剛博士表示，可以預見光學尺的規格要求將會朝著高速度、高解析度和低訊號抖動的趨勢發展，這對控制器和光學尺來說都是一大挑戰，而ASMPT從來沒有懷疑過Renishaw的實力，相信其能繼續提供合適的光學尺產品。

延續與ASMPT長期合作的成功經驗，讓更多業界夥伴深入了解精密量測技術於半導體產業的應用，Renishaw將於9月10日至12日參加SEMICON Taiwan國際半導體展，展出重點涵蓋ASMPT所採用的運動控制光學尺與設備校正系統，並特別展出應用於材料分析的拉曼光譜儀。誠摯邀請業界先進蒞臨南港展覽館二館四樓S7458攤位，共同探索如何透過創新量測技術，邁向更高的製程精度與良率。