無化學清洗時代來臨：Magic Tube帶負電奈米氣泡引領晶圓潔淨革新

無化學清洗時代來臨：Magic Tube帶負電奈米氣泡引領晶圓潔淨革新。台灣日脈

隨著先進製程對潔淨度與環保標準的雙重要求不斷提升，半導體產業正積極尋求高效、無污染的清洗解決方案。近期，一項能在每毫升純水中釋放多達8億個帶負電奈米氣泡（nanobubbles）的創新技術，成功吸引業界關注。

NDS台灣日脈所引進的日本Magic Tube採用特殊專利內部結構設計，其出口形成類似龍捲風（tornado）效應，可在不需額外能量的情況下，僅以一般水壓即可於流動中自然生成大量穩定的奈米級氣泡。

該技術利用一般水壓，透過Magic Tube來產生穩定且均勻的奈米級氣泡。這些氣泡不僅尺寸小於0.1微米，其表面還帶有負電位，可吸附水中污染物與表面殘留，加強剝離效果。

當奈米氣泡在物體表面破裂時，會同步釋放出微小震動與氣流效應，進一步提升洗淨力，能有效去除晶圓、製程設備、儲槽與管線內壁上的微粒與化學殘留，全程不需使用任何化學藥劑，即可達成高效清洗，實現環保且非破壞性的製程需求。此技術特別適用於先進封裝、石英晶體元件清洗、EUV光罩處理、CMP後清洗等高精密應用領域。

相較以化學清潔劑與大量純水為主的清洗方式，奈米級氣泡清洗不僅能降低耗材與用水量，也減少廢液處理成本，契合晶圓廠淨零碳排與綠色製程推動方向。該系統已可模組化導入既有設備流程，不需大規模修改管線或機台，大幅降低導入門檻。

目前已有多家IDM與晶圓代工廠導入測試，數據顯示，奈米級氣泡清洗在不影響產線良率下，能延長設備維護週期，提升運轉穩定性。隨技術成熟與量產成本下降，預期該技術將成為5奈米以下製程中，替代部分濕式化學清洗的關鍵選項。

此次九月台灣半導體展，NDS台灣日脈也將展示完整清洗解決方案，歡迎蒞臨攤位號：M1158（南港展覽館1館4F）與我們交流指導。詳細資訊請洽NDS台灣日脈。