採DUV多重曝光跨入5奈米製程 新凱來杜立軍:仍憂影響良率 智慧應用 影音
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採DUV多重曝光跨入5奈米製程 新凱來杜立軍:仍憂影響良率

  • 李佳翰綜合報導

中國晶片設備製造商深圳市新凱來工業機器(SiCarrier Industry Machines),在SEMICON China 2025上展示多款新晶片生產設備產品,聲稱可利用自主開發設備生產先進晶片,以因應美國持續擴大管制對中國先進晶片與製造設備出口。...

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