中國研發固態DUV雷射 與既有曝光技術互別苗頭
- 李佳翰／綜合報導
最新報告指出，中國中科院研究人員成功開發出一種固態深紫外光（DUV）雷射，能夠在實驗室環境下產生19奈米光源，這是目前半導體曝光技術的關鍵光源波長；不過，新技術仍處於早期研究階段，能否實踐商用仍待進一步驗證。根據Tom'...
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