SK海力士強化EUV製程 導入High-NA設備並全面採用PSM
- 蔡云瑄／綜合報導
SK海力士（SK Hynix）正積極提升極紫外光（EUV）技術以量產新一代DRAM，2025年首度導入高數值孔徑（High-NA）EUV設備後，2026年正式啟動相關技術研發。為提升EUV效能，SK海力士也正採用相位移光罩（PSM）等新材料。
會員登入
會員服務申請/試用
申請專線：
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
關鍵字
