科技1分鐘：雷射光造出奈米級畫筆──電子束微影（EBL）
- 陳至嫻
隨著半導體製程不斷推進，要如何在晶圓上畫出如此微小的電路圖形？除了深紫外光（DUV）、極紫外光（EUV）光學微影之外，還有一項被學界譽為「奈米級畫筆」的關鍵技術──電子束微影（Electron Beam Lithography；EBL），又稱電子束曝光。
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