Festo高效N2吹掃系統助晶圓廠減碳逾萬公噸

Festo N2吹掃系統不僅提升半導體製造的能源效率，更推動產業朝向更環保、永續的方向發展。Festo

隨著全球半導體產業面臨降低能源消耗與二氧化碳排放的嚴峻挑戰，Festo推出基於壓電閥技術的高效N2吹掃系統，專為晶圓製造過程中的氮氣吹掃需求打造，實現節能與環保雙重目標。

Festo N2吹掃系統採用先進壓電比例調節閥，搭配高精度流量感測器與穩定的閉迴路控制，能精準調節氮氣流量，重複精度達設定值±0.25%，確保流量穩定且線性，避免浪費。壓電閥利用壓電元件的機電轉換特性，透過施加電壓產生高速微米級機械變形，實現切換速度快至微秒級，適合半導體製造中對氣體流量的嚴格控制需求。

相較於傳統電磁閥，Festo壓電閥功耗低於1瓦，能耗降低約80%，結構輕巧緊湊，且因採用固態元件設計，摩擦磨損極低，閥門壽命長且幾乎無洩漏，降低維護成本並提升系統可靠性。系統僅需兩個氣動連接，簡化安裝，適合無塵室環境使用。

在應用方面，N2吹掃系統主要用於FOUP（前開式晶圓傳送盒）及相關設備的氮氣吹掃，防止晶圓表面氧化及污染，降低有害微粒與揮發性有機物的影響，提升晶圓良率與製程穩定性。系統可提供高達25標準升／分鐘的穩定流量，短時間內甚至可達30標準升／分鐘，滿足大型晶圓廠高流量需求。

以一座擁有約2萬個N2吹掃FOUP存儲空間的大型晶圓廠為例，假設實際使用率50%，即約1萬個FOUP。透過Festo壓電技術N2吹掃系統，單個FOUP的氮氣流量可由20 nl/min降低至5 nl/min，每年可節省約7,884立方公尺氮氣，對應節省電力約2,711 kWh，減少二氧化碳排放約1.045公噸，折合節省成本約163至271美元（依電價不同）。

整體而言，整座晶圓廠每年可減少約1.045萬公噸CO2排放，約佔總排放量的18%，同時降低氮氣使用成本約18%。

Festo台灣區總經理呂瑞豐表示：「Festo N2吹掃系統不僅提升半導體製造的能源效率，更推動產業朝向更環保、永續的方向發展。這也展現了Festo作為一家有責任感的百年企業，積極推動社會永續發展的承諾。」Festo持續以創新自動化技術，協助客戶實現節能減碳目標，打造更具競爭力與責任感的製造環境。