遏制中國「小蔡司」曝光機研發 拜登卸任前一網打盡
- 謝生輝／台北
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隨著全球半導體競爭加劇，中美高科技領域對抗進入新階段。為遏制中國本土研發先進半導體技術，特別是微影曝光領域，美國商務部近期針對新一輪中國本土企業加強打壓，就在美國總統拜登（Joe Biden）卸任前，針對中國本土曝光機與關鍵零組件展開一網打盡的封鎖。
曝光機，尤其極紫外光（EUV）機台，是半導體製程中最關鍵設備之一，也是中國能否繼續下探7奈米以下先進製程的關鍵，由於ASML進口先進機型已遭禁，中國將突破曝光機視為最核心的科技自主可控目標。
然而，隨著中國本土企業曝光機技術方面不斷取得進展，相關進展也愈趨低調神祕，但美國持續加大打壓力度不見手軟，尤其是針對曝光機相關企業的嚴加封鎖。
就在拜登卸任前，美國商務部近日公布11家實體清單，其中，中國科學院長春光學精密機械與物理研究所、中國科學院上海光學精密機械研究所全部遭入列，最受矚目。
過去幾年，上海微電子設備（SMEE）、長春精密光學、中科院等半導體先進研發機構，就研發和生產本土曝光機台已取得一定程度進展，雖然研究設備未達EUV水準，但也屢傳取得突破。
美國政府擔心，除了對外施加圍堵，中國也日益掌握自主研發，進一步會削弱美國與其盟友在半導體領域的主導地位。因此，拜登政府在其任期即將結束前給予回馬槍，「補強」所有相關業者，進一步限制中國本土曝光機相關領域投資與技術交流。
最早已被列入禁令清單的上海微電子設備是中國知名的曝光機研發單位，主要專注於深紫外光（DUV）曝光機研發，宣稱已成功投入90奈米、65奈米等製程節點曝光技術。
此外，中國政府也積極鼓勵當地高等研究單位增加對半導體設備研發投入，提供相應資金支持。據了解，中國科學院長春光學精密機械與物理研究所（簡稱長春光機所）已開展多項關鍵技術研究，主要是核心零組件光學透鏡、反射鏡等有一定進展。
長春光機所1999年，由長春光機所、長春物理所合併而成，是中國首家本土光學領域研究所，現有18間研究部室，6個國家級重點實驗室工程中心、5個中國科學院重點實驗室工程實驗室，及2個國際聯合實驗室。
另一間中國科學院上海光學精密機械研究所（簡稱上海光機所）成立於1964年，也是中國最早、規模最大的雷射光束技術研究所，以光電子領域雷射光束、光學物理與元件材料研究為主。上述兩家科研單位可說匯集了中國光機電領域的頂尖人才。
對曝光機台來說，上游精密光學透鏡與相關的光機電整合就是核心關鍵，以ASML來說有上游供應商蔡司（Carl Zeiss）緊密配合重要性不言而喻，而這兩間掌握精密光學的單位，便在中國有「小蔡司」稱譽，在精密光學領域扮演十分重要作用，特別是提升中國本土曝光機的精度方面。
業內人士分析，中國曝光機研發絕非短期內能「逆轉勝」，然而，隨著中國不斷加大半導體自主技術投入，未來國家級基金持續增加投資下，很可能倒逼出令人意外的結果，促使愈來愈多本土企業開始聯手參與曝光機研發與合作。
責任編輯：何致中
