台灣純水攜手梅特勒托利多 展示半導體超純水解方

台灣純水與梅特勒托利多攜手參展2026 SEMICON半導體展，推出智慧水循環解決方案，解決超純水品質監控和水資源回收效率等痛點。梅特勒托利多

在半導體產業持續追求高良率與永續製造的趨勢下，用水品質管理與廢水回收效率已成為重要課題。半導體製程水處理與回收專家台灣純水（TAIPURE）將於SEMICON Taiwan 2026國際半導體展展示其高回收率廢水處理技術，並結合全球超純水監測領導品牌梅特勒托利多（METTLER TOLEDO） 的在線水質監測方案，協助半導體廠實現水系統智慧化管理，提升水資源利用效率與系統穩定性。

台灣純水結合AI效能預測 實現製程用水97%回收率

台灣純水針對晶圓切割、研磨與CMP等高濁度廢水，開發出獨家超濾系統。該系統採用日本Kuraray PVDF 親水化超濾膜（UF），具備高通量與高強度特性，配合單邊開放式結構，能有效防止懸浮固體（SS）在膜面堆積。該系統成功實現了97%的極致回收率（製程全過濾，無逆洗水），並具備24/7全天候長效穩定運行、完全零化學藥劑添加、污泥減量與綠色減碳之物理淨化優勢。經實廠運行一整年，系統壓差僅微幅增加 0.01~0.02 kg/cm²，且至今無須進行任何化學清洗保養，展現極佳的系統穩定性。

為落實智慧化營運，系統更深度整合AI效能預測模型。透過結合線性回歸（分析基線以掌握積垢基礎速率）、XGBoost（進行殘差學習以識別週期性操作規律）與EWMA（適應性偏差補償以即時校準）三大演算法，實時預測系統壓差趨勢。經長達一年的實廠驗證，其壓差預測準確度高達 93.8% 至 98.5%，能提前發出雜質預警，確保系統不停機。

梅特勒托利多助力超純水精準監測   守護晶圓良率

在半導體水循環中，去離子水回收（DIR）系統之入水與超純水（UPW）的水質監控是確保產線穩定的關鍵命脈。微量有機污染物（TOC）可能促進微生物生長，TOC、微生物或離子一旦滲入製程，將會損害晶圓表面並導致缺陷，嚴重損害晶片良率。隨著半導體產業積極追求水資源循環與提高回收效率，如何在強化DIR有效回收的同時，維持超純水水質的極致穩定，已成為晶圓製造端不可忽視的核心課題。

為此，梅特勒托利多Thornton推出高精度在線超純水監測技術，，協助半導體業者在製程中即時掌握有機污染物與離子濃度變化，及早預警並採取因應措施，進一步提升製程可靠度與水資源管理效益。

該解方整合三大前瞻技術：首先，「UPW UniCond 導電度感測器」具備領先業界的測量穩定性與高抗噪性，降低環境與樣品溫度波動干擾，即時監測離子純度並發出雜質預警；其次，專為極細微有機污染設計的「6000TOCi 總有機碳分析儀」，提供連續在線實時測量，可將運轉所需的水樣流量降至 8.5 mL/min，有效降低廢水量，進而省下可觀的營運成本；此外，系統整合「ISMTM智慧型感測器管理」技術，透過內建記憶體自動傳遞校準資料，實現隨插即測的快速安裝，搭配「動態使用壽命指示器（DLI）」能針對 UV 燈具、過濾器等提供即時壽命預警，徹底縮短停機維護時間。

實現水系統一站式完美循環創造環境與經濟雙贏

台灣純水的極致回收系統搭配梅特勒托利多的高精準度在線檢測，成功建立起從超純水的源頭純度控制，到末端回收水系統高效回收的完美智慧循環。根據實廠數據評估，這套整合方案每日可為封測廠回收約 717 M³的水，減少738 M³的廢水排放，每年淨節省成本高達490萬元，整套設備的投資回收年限僅為1.84 年。高精度在線監測與智慧物理回收的雙劍合璧，正是半導體製造商降低生產風險、提高晶片良率，並加速實現ESG永續目標的最佳實踐。

台灣純水與梅特勒托利多將於2026年9月2日（三）至 9 月 4 日（五）攜手參展SEMICON Taiwan 2026，於二館四樓攤位R7821展示半導體水系統智慧化管理解方，歡迎產業先進蒞臨參觀指教，欲知更多詳情，點此瀏覽更多。