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應材推3款「埃」級設備深耕2奈米製程　助GAA突破原子級缺陷瓶頸

  • 江承諭／首爾

隨著AI運算帶動半導體產業2奈米以下先進製程競爭，每一個原子級的缺陷都可能成為功耗與良率的瓶頸。應用材料（Applied Mater...

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