JX金屬擬出資Rapidus約50億日圓 規劃供應晶片材料濺鍍靶材
- 江仁傑／綜合報導
JX金屬（JX Nippon Mining & Metals）正研議向日本半導體廠Rapidus出資50億日圓（約3,300萬美元），並向Rapidus供應濺鍍靶材（Sputtering Target）。日經新聞（Nikkei）報導，Rapid...
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