華為2022年申請專利曝光 DUV繞過EUV挑戰2奈米級製程
- 徐畇融／綜合外電
中國國家知識產權局的一項專利文件顯示，華為最初於2022年6月提出一項申請，似乎已研發出不使用極紫外光（EUV）曝光機，僅憑深紫外光（DUV）工具機就實現2奈米級線寬金屬圖案化的技術，引發半導體業界關注。南華早報報導，這套採用改良...
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