中國傳開始量產DUV ASML迎中國國產替代長線挑戰
- 楊智家／綜合報導
據知情人士透露，一家獲中國政府支持、總部位於上海的公司，已首次開始製造浸潤式深紫外光（DUV）微影設備，計劃2026年生產約5台DUV、2027年目標約20台，並預計2026年交付給中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等中國本土晶片製造商，相關生產進展仍處於早期...
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