SCIL Nanoimprint Solutions 奈米等級圖案化壓印微影製程設備商

SCIL Nanoimprint Solutions是一家以奈米級尺寸壓印（Stamp Transfer）在晶圓上圖案化（Patterning）製程設備商，瞄準在在晶圓上做出光學結構做為未來在矽光子模組或智慧眼鏡晶片的應用，SCIL Nanoimprint Solutions（原為飛利浦旗Philips IP&S旗下業務部門）自2015年起活躍於市場，利用其專利壓印技術，開發用於在晶圓上製造特殊光學結構的製程設備和流程。例如，該公司可在晶圓上製造光導結構，實現晶片與光纖的直接連接，從而推動高速光通訊結構的製造。

繼2016年完成首台AutoSCIL工具的內部安裝和測試後，該公司於2017年正式開始量產並向客戶交付設2023年，在創投基金和其他投資者的支持下，該公司正式從Philips IP&S分拆出來，成為一家獨立營運的公司。

該公司專注於光通訊半導體領域的應用，包括用於資料中心的高速光通訊晶片、先進封裝矽光子系統以及用於智慧眼鏡和擴增實境設備的感測器晶片市場。其產品組合涵蓋先進的壓印設備、客製化光學材料和最佳化製程。由於這些都是人工智慧相關應用下一階段的關鍵領域，該公司正吸引業界的廣泛關注。

這些奈米結構和精密結構利用諸如在晶圓上壓印玻璃材料等製程，形成精確圖案，用作光纖通訊系統的導光結構。再者，部分結構被製成透鏡模組，將光學元件壓印在晶圓上。現有設備能夠製造出尺寸小至10奈米、表面粗糙度低於1奈米級的精密光學結構。

該公司的製程設備機台依照不同晶圓的尺寸做產品化區隔，可支援4英吋、6英吋、8英吋和12英吋晶圓。該製程包括塗佈抗蝕劑與拋光、套刻對準、奈米壓印和低溫加熱固化，以完成二維或三維圖案化製程。針對智慧眼鏡和共同封裝光學元件（CPO）這兩個備受矚目的關鍵應用領域，對於台灣半導體產業聚焦在光電子晶片、高速通訊與先進異質封裝技術等議題，對SCIL Nanoimprint Solutions而言台灣是積極開發的重要市場。