中國璞璘奈米壓印繞過ASML 稱10分之1成本量產光子晶片
- 徐畇融／綜合外電
總部位於杭州的中國半導體新創璞璘科技宣布，已成功與深圳力策科技合作驗證其PL-AS真空氣墊奈米壓印微影（NIL）設備，可「完全避免」使用深紫外光（DUV）微影技術，並只需10分之1成本，即可在8吋矽晶圓上量產被廣泛應用於光通訊、感測及光達（LiDAR）領...
會員登入
會員服務申請/試用
申請專線：
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
關鍵字
